蔵書情報
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書誌情報サマリ
タイトル |
シリコン系ヘテロデバイス
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著者 |
古川 静二郎/編著 |
出版者 |
丸善
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出版年月 |
1991.7 |
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資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
No. |
所蔵館 |
配架場所 |
請求記号 |
資料番号 |
資料種別 |
帯出区分 |
状態 |
貸出
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1 |
清水中央 | 清閉/書庫 | 549/シ/ | 110899768 | 一般図書 | | 利用可 |
○ |
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書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
書誌種別 |
図書 |
タイトル |
シリコン系ヘテロデバイス |
著者名 |
古川 静二郎/編著
、
雨宮 好仁/編著
|
著者 ヨミ |
フルカワ セイジロウ、アメミヤ ヨシヒト |
出版者 |
丸善
|
出版年月 |
1991.7 |
ページ数、枚数 |
311p |
大きさ |
22cm |
価格 |
¥6700 |
言語区分 |
日本語 |
ISBN |
4-621-03611-4 |
分類10版 |
549.8 |
分類9版 |
549.8 |
件名 |
半導体 |
内容紹介 |
近年の半導体デバイス・集積回路のめざましい進歩は、シリコンに負うところが非常に大きくなっている。本書は、ヘテロ構造によるSi系デバイスの高性能化を目標に、そのための基礎理論からヘテロ材料、最新のデバイス特性にいたるまでを詳述する。 |
目次
内容細目
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